过滤
关闭导航

电子材料, Electronic Materials

包括:自组装和接触压印材料、无机和金属纳米材料、OFET和OPV材料、电子化学品和蚀刻剂、碳纳米材料、光子与光学材料、OLED和PLED材料、基材和预制电子器件、有机硅材料、特种和智能聚合物、印刷电子材料、液晶材料、官能化纳米粒子、量子点、碳纳米材料、氮化硼纳米管、钙钛矿材料等。我们的生物医学材料包括可降解聚合物、天然聚合物、嵌段共聚物、水凝胶和PEG。高性能能源材料和电子材料兼具先进的半导电容和能量密度。高纯度金属盐、沉积前体、金属、合金、氧化物、单体、聚合物、引发剂及其他聚合工具可确保您合成高质量的材料。

浏览为
排序由
显示 每页

化学镀镍溶液,Electroless nickel plating strike

901630
别名:用于铜、黄铜和铜合金的化学镀镍溶液;Electroless nickel plating solution for copper, brass and copper alloys; NACRES: NA.23
¥934.75

四碘化二磷,Diphosphorus tetraiodide;95%

218650
线性分子式: P2I4 CAS号: 13455-00-0 分子量: 569.57 EC 号: 236-646-7 MDL编号: MFCD00011526 PubChem化学物质编号: 24853077 NACRES: NA.23
¥592.83

锌酸盐无电浸渍镀锌液,Zincate electroless immersion zinc plating solution

901661
通过将锌酸盐化学浸没镀锌溶液应用到适当准备的铝表面上,随后可沉积高质量的化学镀镍膜。
¥1,580.67

陶瓷蚀刻剂A,Ceramic Etchant A

667447
别名:氧化铝蚀刻剂;氮化硅蚀刻剂;氮化镓蚀刻剂;Silicon Nitride Etchant, Si3N4 Etch, GaN Etch, Aluminum Oxide Etchant, Al2O3 Etch, Gallium Nitride Etchant; MDL编号: MFCD08705343 NACRES: NA.23
¥951.72

四氯化硅,Silicon tetrachloride [STC];1.0 M in methylene chloride

249920
别名:四氯硅烷;STC;Tetrachlorosilane; 线性分子式: SiCl4 CAS号: 10026-04-7 分子量: 169.90 MDL编号: MFCD00011229 PubChem化学物质编号: 24855023 NACRES: NA.23
¥620.24

四氯化硅,Silicon tetrachloride [STC];99.998% trace metals basis

289388
别名:四氯硅烷;STC;Tetrachlorosilane; 线性分子式: SiCl4 CAS号: 10026-04-7 分子量: 169.90 EC 号: 233-054-0 MDL编号: MFCD00011229 PubChem化学物质编号: 24857194 NACRES: NA.23
¥965.21

四氯化硅,Silicon tetrachloride [STC];99.998% trace metals basis, packaged for use in deposition systems

688509
别名:四氯硅烷;STC;Tetrachlorosilane; 线性分子式: SiCl4 CAS号: 10026-04-7 分子量: 169.90 MDL编号: MFCD00011229 PubChem化学物质编号: 329761169 NACRES: NA.23
¥8,058.80

二壬基萘二磺酸溶液,Dinonylnaphthalenedisulfonic acid solution [DNNDSA];55 wt. % in isobutanol

522988
线性分子式: (C9H19)2C10H4(SO3H)2 CAS号: 60223-95-2 分子量: 540.78 MDL编号: MFCD02094639 PubChem化学物质编号: 329757817 NACRES: NA.23
¥1,374.32

膦酰氯三聚体 [六氯三聚磷腈],Phosphonitrilic chloride trimer;99.95% trace metals basis

481947
别名:膦酰氯三聚体;六氯三聚磷腈;六氯环三聚膦腈;1,3,5-Triaza-2,4,6-triphosphorin-2,2,4,4,6,6-hexachloride, Hexachlorocyclotriphosphazene, 1,3,5,2,4,6-Triazatriphosphorine-2,2,4,4,6,6-hexachloride

线性分子式: (NPCl2)3 CAS号: 940-71-6 分子量: 347.66 EC 号: 213-376-8 MDL编号: MFCD00006474 PubChem化学物质编号: 24871799 NACRES: NA.23
¥581.67

缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 10:1 含表面活性剂,Buffered oxide etchant (BOE) 10:1 with surfactant [Buffered HF, BHF]

901625
缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 是一种用于微细加工的湿蚀刻剂,主要用途是蚀刻二氧化硅 (SiO2) 或氮化硅 (Si3N4) 薄膜。
¥1,149.89

F型铝蚀刻剂,Aluminum Etchant Type F

901537
别名:用于铝和铝硅金属化的铝蚀刻溶液;Aluminum etching solution for Al and Al-Si metallization;NACRES: NA.23
¥944.17

氟磷酸溶液,Fluorophosphoric acid solution;70 wt. % in H2O

324744
线性分子式: FP(O)(OH)2 CAS号: 13537-32-1 分子量: 99.99 MDL编号: MFCD00011334 PubChem化学物质编号: 24859463 NACRES: NA.23
¥1,676.13