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电子材料, Electronic Materials

包括:自组装和接触压印材料、无机和金属纳米材料、OFET和OPV材料、电子化学品和蚀刻剂、碳纳米材料、光子与光学材料、OLED和PLED材料、基材和预制电子器件、有机硅材料、特种和智能聚合物、印刷电子材料、液晶材料、官能化纳米粒子、量子点、碳纳米材料、氮化硼纳米管、钙钛矿材料等。我们的生物医学材料包括可降解聚合物、天然聚合物、嵌段共聚物、水凝胶和PEG。高性能能源材料和电子材料兼具先进的半导电容和能量密度。高纯度金属盐、沉积前体、金属、合金、氧化物、单体、聚合物、引发剂及其他聚合工具可确保您合成高质量的材料。

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镍铬合金蚀刻剂,Nichrome etchant;standard

651834
镍铬合金蚀刻剂是一种由硝酸铈铵和硝酸混合而成的高纯度蚀刻体系。它可以用来蚀刻镍和铬合金。
¥591.18

双(4-叔丁基苯基)碘鎓六氟磷酸酯,Bis(4-tert-butylphenyl)iodonium hexafluorophosphate;98%

726206
Empirical Formula (Hill Notation): C20H26F6IP CAS号: 61358-25-6 分子量: 538.29 Beilstein: 5721061 MDL编号: MFCD06797070 PubChem化学物质编号: 329764215 NACRES: NA.23
¥950.15

硼酸酐 [氧化硼, 硼酐],Boric anhydride;99.999% trace metals basis

202851
别名:三氧化二硼;硼酸酐; Boron trioxide;Empirical Formula (Hill Notation): B2O3 CAS号: 1303-86-2 分子量: 69.62 EC 号: 215-125-8 MDL编号: MFCD00011315 eCl@ss: 38120103 PubChem化学物质编号: 24852124
¥604.41

亚硒酸,Selenous acid;99.999% trace metals basis

229857
别名:硒脲酸;Selenious acid; 线性分子式: H2SeO3 CAS号: 7783-00-8 分子量: 128.97 EC 号: 231-974-7 MDL编号: MFCD00011331 PubChem化学物质编号: 24853753 NACRES: NA.23
¥1,712.44

硫,Sulfur;flakes, ≥99.99% trace metals basis

344621
别名:高纯硫;超纯硫;化学硫;硫磺;Empirical Formula (Hill Notation):S; CAS号: 7704-34-9 分子量: 32.07 EC 号: 231-722-6 MDL编号: MFCD00085316 PubChem化学物质编号: 24861269 NACRES: NA.23
¥794.92

三碘化磷,Phosphorus triiodide [PI3];99%

241555
别名:碘化磷(III);Phosphorus(III) iodide; 线性分子式: PI3 CAS号: 13455-01-1 分子量: 411.69 EC 号: 236-647-2 MDL编号: MFCD00011442 PubChem化学物质编号: 24854489 NACRES: NA.23
¥905.15

三溴化磷,Phosphorus tribromide [PBr3];≥99.99% trace metals basis

288462
别名:溴化磷(III);Phosphorus(III) bromide;线性分子式: PBr3 CAS号: 7789-60-8 分子量: 270.69 EC 号: 232-178-2 MDL编号: MFCD00011436 PubChem化学物质编号: 24857341 NACRES: NA.23
¥454.95

三溴化磷溶液,Phosphorus tribromide solution [PBr3];1.0 M in methylene chloride

276820
别名:溴化磷(III);Phosphorus(III) bromide;线性分子式: PBr3 CAS号: 7789-60-8 分子量: 270.69 MDL编号: MFCD00011436 PubChem化学物质编号: 24856720 NACRES: NA.23
¥354.33

D型铝蚀刻剂,Aluminum Etchant Type D

901545
别名:用于砷化镓和磷化镓器件的铝蚀刻溶液;Aluminum etching solution for use on gallium arsenide and gallium phosphide devices;NACRES:NA.23
¥944.17

六氟钛酸溶液,Hexafluorotitanic acid solution;60 wt. % in H2O, 99.9% trace metals basis

481777
别名:六氟钛酸 (H2 TiF6 );六氟钛酸二氢 (2−);Hexafluorotitanic acid (H2 TiF6 ), Fluorotitanic acid, Dihydrogen hexafluorotitanate(2−) , Hexafluorotitanic acid 线性分子式: H2TiF6 CAS号: 17439-11-1 分子量: 163.87 MDL编号: MFCD00049647 PubChem化学物质编号: 24871780 NACRES: NA.23
¥569.27

碲酸,Telluric acid;98%

308463
线性分子式: H6TeO6 CAS号: 7803-68-1 分子量: 229.64 EC 号: 232-267-6 MDL编号: MFCD00011609 PubChem化学物质编号: 24858673 NACRES: NA.23
¥1,110.86

碲酸,Telluric acid;purum, ≥99.0% (T)

86375
别名:Orthotelluric acid; 线性分子式: H6TeO6 CAS号: 7803-68-1 分子量: 229.64 EC 号: 232-267-6 MDL编号: MFCD00011609 PubChem化学物质编号: 329769458 NACRES: NA.23
¥1,875.27