包括:自组装和接触压印材料、无机和金属纳米材料、OFET和OPV材料、电子化学品和蚀刻剂、碳纳米材料、光子与光学材料、OLED和PLED材料、基材和预制电子器件、有机硅材料、特种和智能聚合物、印刷电子材料、液晶材料、官能化纳米粒子、量子点、碳纳米材料、氮化硼纳米管、钙钛矿材料等。我们的生物医学材料包括可降解聚合物、天然聚合物、嵌段共聚物、水凝胶和PEG。高性能能源材料和电子材料兼具先进的半导电容和能量密度。高纯度金属盐、沉积前体、金属、合金、氧化物、单体、聚合物、引发剂及其他聚合工具可确保您合成高质量的材料。
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901679
别名:常温镀镍溶液;Room temperature nickel metallizing solution; NACRES: NA.23
901663
别名:常温镀镍溶液;Room temperature nickel metallizing solution; NACRES: NA.23
901675
别名:常温镀镍溶液;Room temperature nickel metallizing solution; NACRES: NA.23
901667
改进的HF缓冲系统,具有稳定的 HF 活性-用于 SiO2 的选择性溶剂,用于平面钝化器件的半导体技术-晶体管、集成电路、二极管、整流器、SCR、MOS、FET
901657
改进的HF缓冲系统,具有稳定的 HF 活性-用于 SiO2 的选择性溶剂,用于平面钝化器件的半导体技术-晶体管、集成电路、二极管、整流器、SCR、MOS、FET
901481
别名:双(三甲基硅烷基)胺;1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷;1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane;Bis(trimethylsilyl)amine
线性分子式: C6H19NSi2 CAS号: 999-97-3 NACRES: NA.23
901482
别名:双(三甲基硅烷基)胺;1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷;1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane;Bis(trimethylsilyl)amine
线性分子式: C6H19NSi2 CAS号: 999-97-3 NACRES: NA.23
86944
别名:双(三甲基硅烷基)胺;1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷;1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane;Bis(trimethylsilyl)amine
线性分子式: (CH3)3SiNHSi(CH3)3 CAS号: 999-97-3 分子量: 161.39 Beilstein: 635752 EC 号: 213-668-5 MDL编号: MFCD00008259 PubChem化学物质编号: 329769500 NACRES: NA.23
901265
可用于去除金、银和贵金属合金表面的氧化物和锈蚀,不留残留物。
695912
别名:铅片;铅丸;铅元素;Lead Flake;Lead element; Empirical Formula (Hill Notation): Pb CAS号: 7439-92-1 分子量: 207.20 EC 号: 231-100-4 MDL编号: MFCD00134050 PubChem化学物质编号: 329761785 NACRES: NA.23
667501
别名:氮化钽腐蚀剂;Tantalum nitride etch; MDL编号: MFCD08705363 NACRES: NA.23
667471
别名:硅100蚀刻剂;优先硅蚀刻剂;Silicon 100 Etch, Preferential Silicon Etchant, Silicon Preferential Etch
MDL编号: MFCD08705341 NACRES: NA.23