各向异性硅<100>蚀刻剂，Anisotropic Silicon <100> Etchant

图片 各向异性硅<100>蚀刻剂，Anisotropic Silicon <100> Etchant
别名：硅100蚀刻剂；优先硅蚀刻剂；Silicon 100 Etch, Preferential Silicon Etchant, Silicon Preferential Etch

MDL编号: MFCD08705341 NACRES: NA.23
制造商品牌: 西格玛 Sigma-Aldrich
货号（SKU）: 667471
MDL号: MFCD08705341
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说明

一般描述

基于乙二胺 - 适于 < 100 > 晶向
 

应用

蚀刻速率：100°C 下 ~80 微米/小时。只需去离子水冲洗即可蚀刻干净。不侵蚀金或钽。
 
 

属性

折射率

n20/D 1.484

质量水平

100

bp

>240 °C

密度

1.001 g/mL at 25 °C

 

安全信息

警示用语：

Danger

危险分类

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 3 - Carc. 1B - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 3 - Muta. 2 - Resp. Sens. 1 - Skin Corr. 1B - Skin Sens. 1

储存分类代码

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 2

闪点(F)

109.9 °F

闪点(C)

43.3 °C

个人防护装备

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

商品规格
属性名称属性值
储存温度 Storage temp.常温阴凉避光
全球实时库存 Availability √美国St. Louis ≥ 30 | 欧洲Eur. ≥ 10 | 東京Tokyo ≥ 9 | 香港与北京 ≥ 30
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