Capto MMC ImpRes多模式弱阳离子层析填料，Capto MMC ImpRes multimodal chromatography resin

图片 Capto MMC ImpRes多模式弱阳离子层析填料，Capto MMC ImpRes multimodal chromatography resin
该填料专为现代大规模生产工艺设计，用于对单克隆抗体 (mAb) 和其他生物分子进行高分辨率精纯。17371605；17371603；17371602；17371601；17371604；17-3716-05；17-3716-03；17-3716-02；17-3716-01；17-3716-04
制造商品牌: (安)法玛西亚 Amersham Pharmacia , 思拓凡 Cytiva
货号（SKU）: 17371601
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Capto MMC ImpRes multimodal chromatography resin

Designed for modern, large-scale manufacturers, this resin is used for high-resolution polishing of monoclonal antibodies (mAbs) and other biomolecules.

该填料专为现代大规模生产工艺设计，用于对单克隆抗体 (mAb) 和其他生物分子进行高分辨率精纯。

  • 通过高分辨率颗粒和配基选择性获得高产量。
  • 高效去除单抗工艺中的聚集体、病毒和主要污染物。
  • 支持使用平台方法进行单抗工艺开发。
  • 显示较宽的 pH 值和盐操作窗口。
  • 适用于抗体片段精制。
  • 填料可满足供应安全、性能稳定和监管支持方面的工业需要。
多模式层析 产品手册

解决具有挑战性的纯化问题

与传统离子交换剂相比，弱阳离子交换多模式配基能够在宽泛的 pH 值和盐窗口中实现高选择性。这种选择性允许在各种工艺条件下使用 Capto MMC ImpRes，以解决具有挑战性的纯化问题。

较宽操作窗口，以简化工艺

Capto MMC ImpRes 的多模式阳离子交换配基通过多种类型的相互作用（包括氢键和疏水性相互作用）与靶向分子发生相互作用。

Capto MMC ImpRes 可用于单抗纯化工艺的初始或最终精纯步骤。也可用于抗体片段（如结构域抗体 (DAb)）的精纯。

电导率和/或 pH 值的较宽操作窗口简化了下游工艺，因为可以省略蛋白 A 步骤后的样品条件调节。使用敏感单抗时，较宽操作窗口简化了条件优化。

预填充柱和其他规格

Capto MMC ImpRes 填料具有以下规格：

工艺开发规模：预填充

  • PreDictor Capto MMC ImpRes 滤板（96 孔板），用于高通量筛选或工艺开发。
  • PreDictor MMC ImpRes RoboColumn™ 单元，小型化层析柱，用于高通量工艺开发。
  • HiScreen Capto MMC ImpRes 层析柱，优化方法和工艺开发。

实验室规模：手动纯化的预填充柱

HiTrap Capto MMC ImpRes 层析柱，易于与注射器、蠕动泵或层析系统配合使用。

实验室规模：用于自动纯化和分析的预填充柱

HiTrap Capto MMC ImpRes 层析柱，易于与注射器、蠕动泵或层析系统配合使用。

工艺表征：填料试剂盒

工艺表征试剂盒 Capto MMC ImpRes，设计用于研究填料配基密度对工艺结果的潜在影响。

生产级纯化：预填充

ReadyToProcess Capto MMC ImpRes 层析柱，用于临床生产的 1 L 和更大层析柱，尽可能降低对清洁和清洁验证的需要。

 

参数Capto MMC ImpRes
避免使用氧化剂、阳离子去污剂 
结合载量/mL 层析介质：60-90 mg Mab/mL 
BioProcess 填料是 
化学稳定性常用水性缓冲液、1 M 乙酸、1 M NaOH、2 M NaCl、5% 1-丙醇、30% 异丙醇、70% 乙醇 
配基多模式弱阳离子交换剂 
配基密度25-39 µmol/ml 
基质高速流琼脂糖 
粒度，d50 V 1~ 40 μm 
压力/流速规格 2300 kPa 
储存20% 乙醇、0.2 M 乙酸钠中 4°C 至 30°C 
pH 值稳定性 （CIP） 32–14 
pH 稳定性（操作） 43–12 
  • 1总体积分布的中值粒径。
  • 2最小 220 cm/h，1 m 直径层析柱，20 cm 柱床高度
  • 3在该 pH 值区间内介质可进行在线清洁而功能无显著变化。
  • 4填料可在功能无显著变化的情况下调控的 pH 值范围。
商品规格
属性名称属性值
储存温度 Storage temp.常温阴凉避光
全球实时库存 Availability √美国St. Louis ≥ 20 | 欧洲Eur. ≥ 16 | 東京Tokyo ≥ 5 | 香港与北京 ≥ 20
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