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四氯化锡，Tin(IV) chloride；EMPLURA®, ≥99.0% (acidimetric)

1.07810

别名：无水四氯化锡；无水氯化锡；发烟氯化高锡；Stannic chloride fuming；Tin(IV) chloride, Tin tetrachloride, Stannous chloride； Empirical Formula (Hill Notation): Cl4Sn CAS号: 7646-78-8 分子量: 260.52 MDL编号: MFCD00011242 EC索引号: 231-588-9

二氧化钛(IV)，Titanium(IV) oxide；EMPROVE® ESSENTIAL, Ph. Eur., BP, ChP, JP, USP, E 171, 99.0-100.5%

1.00805

1008050500；1008059029；1008059525；别名：Titania, Titanium dioxide；Empirical Formula (Hill Notation): O2Ti CAS号: 13463-67-7 分子量: 79.87 MDL编号: MFCD00011269 E编号: E171 EC索引号: 236-675-5

二氧化钛(IV)，Titanium(IV) oxide；for analysis EMSURE® Reag. Ph Eur, 98.0-100.5%

1.00808

1008081000；1008089025；1008089050；别名：Titania, Titanium dioxide；Empirical Formula (Hill Notation): O2Ti CAS号: 13463-67-7 分子量: 79.87 MDL编号: MFCD00011269 EC索引号: 236-675-5

对甲苯磺酸一水合物，p-Toluenesulfonic acid monohydrate [PTSA, p-TsOH]；for analysis EMSURE® ACS, ≥99.0% anhydrous basis (acidimetric)

1.09613

1096130100；1096130500；别名：p-甲苯磺酸一水合物；一水对甲苯磺酸；对甲苯磺酸水合物；赖诺普利杂质B；Toluene-4-sulfonic acid monohydrate；4-Methylbenzenesulfonic acid monohydrate, 4-Toluenesulfonic acid monohydrate, PTSA monohydrate, TsOH monohydrate

Empirical Formula (Hill Notation): C7H8O3S · xH2O CAS号: 6192-52-5 分子量: 172.20 (anhydrous basis) MDL编号: MFCD00142137 EC索引号: 203-180-0

三氟乙酸酐，Trifluoroacetic anhydride [TFAA]；for gas chromatography, ≥99.0% (GC)

1.12513

1125130010；三氟醋酸酐；Bis(trifluoroacetic) anhydride；线性分子式: (CF3CO)2O CAS号: 407-25-0 分子量: 210.03 MDL编号: MFCD00000416 EC索引号: 206-982-9

α,α,α-三氟甲苯，α,α,α-Trifluorotoluene [TFT]；for synthesis, ≥99% (GC)

8.41554

8415540100；三氟甲基苯；Benzotrifluoride；Empirical Formula (Hill Notation): C7H5F3 CAS号: 98-08-8 分子量: 146.11 MDL编号: MFCD00000372 EC索引号: 202-635-0

2,2,4-三甲基戊烷 [异辛烷]，2,2,4-Trimethylpentane [Isooctane, TMP]；for analysis EMSURE® ACS,Reag. Ph Eur, ≥99.5% (GC)

1.04727

1047271000；1047272500；1047276010；1047276025；线性分子式: (CH3)2CHCH2C(CH3)3 CAS号: 540-84-1 分子量: 114.23 Beilstein: 1696876 MDL编号: MFCD00008943 EC索引号: 208-759-1

2,2,4-三甲基戊烷 [异辛烷]，2,2,4-Trimethylpentane [Isooctane, TMP]；for gas chromatography ECD and FID SupraSolv®, ≥99.8% (GC)

1.15440

1154401000；1154402500；线性分子式: (CH3)2CHCH2C(CH3)3 CAS号: 540-84-1 分子量: 114.23 Beilstein: 1696876 MDL编号: MFCD00008943 EC索引号: 208-759-1

2,2,4-三甲基戊烷 [异辛烷]，2,2,4-Trimethylpentane [Isooctane, TMP]；for liquid chromatography LiChrosolv®, ≥99% (GC)

1.04717

1047171000；1047172500；线性分子式: (CH3)2CHCH2C(CH3)3 CAS号: 540-84-1 分子量: 114.23 Beilstein: 1696876 MDL编号: MFCD00008943 EC索引号: 208-759-1

2,2,4-三甲基戊烷 [异辛烷]，2,2,4-Trimethylpentane [Isooctane, TMP]；for spectroscopy Uvasol®, ≥99.8% (GC)

1.04718

1047180500；1047182500；线性分子式: (CH3)2CHCH2C(CH3)3 CAS号: 540-84-1 分子量: 114.23 Beilstein: 1696876 MDL编号: MFCD00008943 EC索引号: 208-759-1

2,4,6-三甲基吡啶，2,4,6-Trimethylpyridine；for synthesis, ≥98.0% (GC)

8.22267

8222670050；8222670250；8222671000；别名：2,4,6-三甲基氮杂苯；可力丁；2,4,6-三甲吡啶；对称-碰撞啶；对称可力丁；s-可力丁；2,4,6-可力丁；2,4,6-Collidine；sym-Collidine

线性分子式: (CH3)3C5H2N CAS号: 108-75-8 分子量: 121.18 MDL编号: MFCD00006338 EC索引号: 203-613-3

钨硅酸水合物 [硅钨酸]，Tungstosilicic acid hydrate；for analysis EMSURE®

1.00659

1006590100；别名：水合钨硅酸；水合硅钨酸；硅钨酸水合物；Tungstosilicic acid hydrate, Silicotungstic acid, Wolframosilicic acid

线性分子式: H4[Si(W3O10)4] · x H2O CAS号: 12027-43-9 分子量: 2878.17 (anhydrous basis) MDL编号: MFCD00150392 EC索引号: 234-719-8

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